Kutatási Infrastruktúra
Partnereink és megrendelőink számára rendelkezésre álló infrastruktúrák, igénybe vehető technológiai lépések:
Mikrotechnológiai tisztatér
- Magas hőmérsékletű hőkezelés, diffúzió, oxidáció
- Gyorshőkezelés
- Poliszilícium, szilícium-nitrid és szilícium-dioxid alacsony nyomású kémiai gőzfázisú leválasztása (LPCVD)
- Alacsony hőmérsékletű kémiai gőzfázisú leválasztás
- Ionimplantáció
- Vékonyréteg leválasztás – Elektronsugaras gőzölés, DC és RF porlasztás
- Atomi rétegleválasztás (ALD)
- Mély reaktív ionmarás (DRIE)
- Fotolitográfia hátoldali illesztési- és nanoimprint lehetőséggel
- Szeletkötés
- Nedves kémiai műveletek
- Elektrokémiai marás – pórusos szilícium készítés
- Maszk tervezés és generálás
- Elektromos és funkcionális minősítés
Roncsolásmentes vizsgálólabor
Az Energiatudományi Kutatóközpont Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézet több évtizedes tapasztalattal rendelkezik anyagok roncsolásmentes vizsgálata és minősítése terén, az ISO 9001:2009 minőségbiztosítási rendszer szerint.
Vállalt tevékenységek: felületi nanoszerkezetek és anyagok roncsolásmentes optikai és mágneses mérése, beleértve: spektroszkópia; mágneses anyagvizsgálat; bioszenzorok; felületek görbültsége; felületek tisztasága; víz szennyezettsége vizsgálatokat
Legfontosabb minősíthető tulajdonságok:
- rétegvastagság (0.5-1000 nm);
- optikai törésmutató (pontosság: ~0.001);
- homogenitás;
- határfelületek minősége;
- porozitás (pl. pórusos rétegben az üregtartalom);
- felületi nanoérdesség;
- réteg-összetétel bizonyos esetekben (pl. Si nanoszemcse tartalom szilíciumdioxidban);
- szénrétegek fázisainak megkülönböztetése
- kristályosság (egykristályos anyagok rácsrendezetlensége, roncsoltsága).
- acélszerkezetek anyaghibái és szilárdsága
- félvezetők kristály- és sávszerkezete
Mikroszkópos laboratóriumok
- THEMIS 200 transzmissziós elektronmikroszkóp
- pásztázó alagútmikroszkóp