Kutatási infrastruktúra

Home Kutatás Kutatási infrastruktúra

Kutatási Infrastruktúra

Partnereink és megrendelőink számára rendelkezésre álló infrastruktúrák, igénybe vehető technológiai lépések:

 

Mikrotechnológiai tisztatér

  • Magas hőmérsékletű hőkezelés, diffúzió, oxidáció
  • Gyorshőkezelés
  • Poliszilícium, szilícium-nitrid és szilícium-dioxid alacsony nyomású kémiai gőzfázisú leválasztása (LPCVD)
  • Alacsony hőmérsékletű kémiai gőzfázisú leválasztás
  • Ionimplantáció
  • Vékonyréteg leválasztás – Elektronsugaras gőzölés, DC és RF porlasztás
  • Atomi rétegleválasztás (ALD)
  • Mély reaktív ionmarás (DRIE)
  • Fotolitográfia hátoldali illesztési- és nanoimprint lehetőséggel
  • Szeletkötés
  • Nedves kémiai műveletek
  • Elektrokémiai marás – pórusos szilícium készítés
  • Maszk tervezés és generálás
  • Elektromos és funkcionális minősítés

 

 

Roncsolásmentes vizsgálólabor
Az Energiatudományi Kutatóközpont Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézet több évtizedes tapasztalattal rendelkezik anyagok roncsolásmentes vizsgálata és minősítése terén, az ISO 9001:2009 minőségbiztosítási rendszer szerint.
Vállalt tevékenységek: felületi nanoszerkezetek és anyagok roncsolásmentes optikai és mágneses mérése, beleértve: spektroszkópia; mágneses anyagvizsgálat; bioszenzorok; felületek görbültsége; felületek tisztasága; víz szennyezettsége vizsgálatokat
Legfontosabb minősíthető tulajdonságok:

  • rétegvastagság (0.5-1000 nm);
  • optikai törésmutató (pontosság: ~0.001);
  • homogenitás;
  • határfelületek minősége;
  • porozitás (pl. pórusos rétegben az üregtartalom);
  • felületi nanoérdesség;
  • réteg-összetétel bizonyos esetekben (pl. Si nanoszemcse tartalom szilíciumdioxidban);
  • szénrétegek fázisainak megkülönböztetése
  • kristályosság (egykristályos anyagok rácsrendezetlensége, roncsoltsága).
  • acélszerkezetek anyaghibái és szilárdsága
  • félvezetők kristály- és sávszerkezete

 

Mikroszkópos laboratóriumok

  • THEMIS 200 transzmissziós elektronmikroszkóp
  • pásztázó alagútmikroszkóp